Politechnika Częstochowska - Centralny System Uwierzytelniania
Strona główna

Ochrona własności intelektualnej WZ-LOGI-Z1-OWI-01
Ćwiczenia (CW) Semestr zimowy 2021/2022

Informacje o zajęciach (wspólne dla wszystkich grup)

Liczba godzin: 9
Limit miejsc: (brak limitu)
Zaliczenie: Zaliczenie na ocenę
Literatura:

LITERATURA PODSTAWOWA I UZUPEŁNIAJĄCA

PODSTAWOWA:

1. A. Szewc. Leksykon własności przemysłowej i intelektualnej. Wyd. Wolters Kluwer Polska, Oficyna, Warszawa 2003.

2. A. Kidyba. Prawo handlowe. Wyd. C.H. Beck, 2007.

3. A. Pyrża. Poradnik wynalazcy. Wyd. Urząd Patentowy RP, 2009.

UZUPEŁNIAJĄCA:

1. Prawo handlowe: zbiór przepisów : stan prawny na 14 stycznia 2014 r., Wolters Kluwer, 2014.

2. J. Barta, R. Markiewicz , Prawo autorskie i prawa pokrewne, Wolters Kluwer, 2011.

3. M. Konopka, T. Goszczyński, Nazwa i logo uczelni wyższej - zarządzanie marką i jej ochrona, Wydawnictwo Wydziału Zarządzania Politechniki Częstochowskiej, Zarządzanie organizacją. Koncepcje, wyzwania, perspektywy (red.) GRABOWSKA Marlena, ŚLUSARCZYK Beata, 2017.

4. S. Cichoń, Zarządzanie pracą własną nauczyciela akademickiego uczelni wyższej,

w: Problemy zarządzania współczesną uczelnią - ujęcie wieloaspektowe, red. nauk. S. Cichoń, J. Gajda, Wydawnictwo Wydziału Zarządzania Politechniki Częstochowskiej, Częstochowa 2015.

Publikacje zwarte dostępne w zasobach bibliotecznych Politechniki Częstochowskiej, w przypadku ich braku możliwość wypożyczenia międzybibliotecznego.

Efekty uczenia się:

EFEKTY UCZENIA SIĘ

EU 1- Student posiada wiedzę o systemie i rodzajach instytucji powołanych dla ochrony praw własności intelektualnej i przemysłowej.

EU 2- Student zna zasady tworzenia i stosowania prawa cywilnego i gospodarczego w zakresie ochrony własności intelektualnej.

EU 3- Student zna zasady postępowania przed krajowymi i międzynarodowymi instytucjami ochrony własności intelektualnej i przemysłowej.

EU 4- Student posiada umiejętność dochodzenia swoich praw wynikających z norm prawa własności intelektualnej i przemysłowej.

Metody i kryteria oceniania:

F1. Ocena prezentacji

P1. Kolokwium zaliczeniowe.

EU1:

2,0 -Student nie posiada wiedzy o systemie ochrony własności intelektualnej i przemysłowej. Nie zna podstawowych instytucji powołanych do ochrony ww. praw.

3,0 -Student posiada wiedzę o systemie ochrony własności intelektualnej i przemysłowej. Potrafi wymienić podstawowe instytucje powołane do ochrony ww. praw.

4,0 -Student posiada wiedzę o systemie ochrony własności intelektualnej i przemysłowej. Potrafi wymienić podstawowe instytucje powołane do ochrony ww. praw. Student potrafi scharakteryzować źródła prawa własności intelektualnej i przemysłowej.

5,0 -Student posiada wiedzę o systemie ochrony własności intelektualnej i przemysłowej. Potrafi płynnie wymienić podstawowe instytucje powołane do ochrony ww. praw. Student potrafi płynnie scharakteryzować źródła prawa własności intelektualnej i przemysłowej.

EU2:

2,0 -Student nie zna zasad tworzenia i stosowania prawa cywilnego i gospodarczego w zakresie ochrony własności intelektualnej.

3,0 -Student potrafi zaprezentować zasady tworzenia i stosowania prawa w zakresie ochrony własności intelektualnej i przemysłowej.

4,0 -Student potrafi zaprezentować zasady tworzenia i stosowania prawa w zakresie ochrony własności intelektualnej i przemysłowej. Zna hierarchię ww. źródeł.

5,0 -Student potrafi zaprezentować zasady tworzenia i stosowania prawa w zakresie ochrony własności intelektualnej i przemysłowej. Zna hierarchię ww. źródeł. Potrafi efektywnie wykorzystać ww. wiedzę w podejmowaniu i prowadzeniu działalności gospodarczej.

EU3:

2,0 -Student nie zna zasad postępowania przed krajowymi i międzynarodowymi instytucjami ochrony własności intelektualnej i przemysłowej.

3,0 -Student zna zasady postępowania przed krajowymi i międzynarodowymi instytucjami ochrony własności intelektualnej i przemysłowej.

4,0 -Student zna zasady postępowania przed krajowymi i międzynarodowymi instytucjami ochrony własności intelektualnej i przemysłowej. Potrafi odnaleźć różnice między ww. systemami.

5,0 -Student zna zasady postępowania przed krajowymi i międzynarodowymi instytucjami ochrony własności intelektualnej i przemysłowej. Potrafi odnaleźć różnice między ww. systemami, poprawnie interpretuje ww. przepisy.

EU4:

2,0 -Student nie posiada umiejętności dochodzenia swoich praw wynikających z norm prawa własności intelektualnej i przemysłowej.

3,0 -Student posiada umiejętność dochodzenia swoich praw wynikających z norm prawa własności intelektualnej i przemysłowej.

4,0 -Student posiada umiejętność dochodzenia swoich praw wynikających z norm prawa własności intelektualnej i przemysłowej. Potrafi efektywnie zarządzać ww. prawami.

5,0 -Student posiada umiejętność dochodzenia swoich praw wynikających z norm prawa własności intelektualnej i przemysłowej. Potrafi efektywnie zarządzać ww. prawami, płynnie stosuje posiadane umiejętności w działalności przedsiębiorstw i instytucji.

Zakres tematów:

CW1- Zajęcia organizacyjne, omówienie przedmiotu ćwiczeń, sposobu uzyskania zaliczenia-1h

CW2- Prezentacje multimedialne obejmujące problematykę ochrony praw własności intelektualnej i przemysłowej-6h

CW3- Kolokwium zaliczeniowe obejmujące materiał analizowany na wykładach i ćwiczeniach-1h

CW4- Omówienie wyników kolokwium, zaliczenie ćwiczeń-1h

Metody dydaktyczne:

1. Podręczniki i skrypty

2. Sprzęt audiowizualny

3. Krajowe i wspólnotowe akty normatywne

Grupy zajęciowe

zobacz na planie zajęć

Grupa Termin(y) Prowadzący Miejsca Liczba osób w grupie / limit miejsc Akcje
1 każda sobota, 10:30 - 12:55, sala 211-Z
Michał Konopka 24/ szczegóły
Wszystkie zajęcia odbywają się w budynku:
Wydział Inżynierii Produkcji i Technologii Materiałów - Budynek B
Opisy przedmiotów w USOS i USOSweb są chronione prawem autorskim.
Właścicielem praw autorskich jest Politechnika Częstochowska.
ul. J.H. Dąbrowskiego 69
42-201 Częstochowa
tel: +48 (34) 3255-211 https://pcz.pl
kontakt deklaracja dostępności mapa serwisu USOSweb 7.0.4.0-4 (2024-07-15)